中国光掩模玻璃基板行业市场需求量分析
光刻掩膜版,简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(集成电路)、FPD(平板显示器)、PCB(印刷电路板)、MEMS(微机电系统)等。光掩模板主要由玻璃基板与遮光膜两部分组成,其中玻璃基板成本占整体材料成本的90%。光掩模玻璃基板是指用于制作光掩模板的空白玻璃,也被称作制版玻璃。
光掩模板材料成本分布
资料来源:智研咨询整理
集成电路是现代化工业的“大脑”,是国家科技战略的基础和工业发展的纽带,集成电路产业发展水平从一定程度上反映了国家创新制造水平。目前,国内电子信息产业持续高速发展,提升了我国集成电路行业的景气度,近年来,在国家政策的支持下,企业不断加大对集成电路的研发投入,中国集成电路产量不断扩大,2021年111月中国集成电路产量3295.1亿块,同比增长37.1%。
20112021年11月中国集成电路产量
资料来源:国家统计局、智研咨询整理
二、需求量
近年来,随着中国集成电路、平板显示器等行业的快速发展,光刻掩膜版需求量不断增长,带动原材料光掩模玻璃基板需求量也逐年增加,2020年中国光掩模玻璃基板需求量为10.0万平方米,2020年增加至11.5万平方米。发展初期,我国光掩模玻璃基板主要依赖进口,2010年以来,我国加大了对光掩模玻璃基板研发和产业化进程,我国企业不再纯粹依赖国外进口。
20152020年中国光掩模玻璃基板需求量
资料来源:智研咨询整理
与光掩模玻璃基板有关标准
资料来源:国家市场监督管理总局、智研咨询整理
目前被用来制作光掩模玻璃基板基本材料包括合成石英、硼硅玻璃和苏打玻璃等,其中合成石英化学性质最为稳定,具有高硬度、低膨胀系数和透光性强等优势,被广泛运用到具有较高精度要求的产品生产中,在光掩模玻璃基板需求量材料分布占比中,石英材料占比不断提升,由2015年的27%提升至2020年的42%。
2020年中国光掩模玻璃基板需求量材料分布
资料来源:智研咨询整理
从应用领域分布来看,IC、FPD为光掩模玻璃基板主要应用领域,2020年合计占比超总需求量的95%,其中IC光掩模玻璃基板需求量约为5.6万平方米,占比49%;FPD光掩模玻璃基板需求量约为5.3万平方米,占比46.5%。
20152020年中国光掩模玻璃基板需求量分布
资料来源:智研咨询整理
随着半导体集成电路(IC)、显示面板(FPD)和PCB等产业重心向中国倾斜和转移,带动我国光掩模板行业等迅速发展,作为光掩模板上游的光掩模玻璃基板产业必受到强有力的拉动,尤其是光掩模石英玻璃基板的发展将进一步加快。
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